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      单晶生长→切断→外径滚磨→平边或V型槽处理→切片→倒角→研磨→腐蚀--抛光→清洗→包装 切断: 目的:切除单晶硅棒的头部、尾部及超出客户规格的部分,切取试片测量单晶硅棒的电阻率含氧量。

      化学机械抛光是化学腐蚀与机械磨削同步进行的工艺,旨在通过去除硅片表面的损伤层,实现平整度的提升。这一过程中,通过铜离子抛光、铬离子抛光以及更为常见的二氧化硅胶体抛光,硅片表面得以精确处理。

      静电吸盘夹持法通过给硅片或电极通高压电,利用静电吸引力将硅片固定在夹持位置。这种方法的优点在于均匀的作用力,不会产生应力集中,也不会损坏硅片边缘,但吸附力相对较小,夹持精度较低。静电吸盘适用于需要在真空环境中进行的化学气相沉积等工序以及化学机械抛光加工。

      硅抛光片和外延片是半导体行业中两种不同的硅片材料处理方式,它们各自具有独特的特点和应用。 硅抛光片是通过高速旋转的机械设备和抛光液体,对硅表面进行平整抛光处理,使其具有高表面光洁度和一致的厚度。

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